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拋光液、研磨液
硅CMP拋光液TJHG-SH-2125

名稱:硅CMP拋光液TJHG-SH-2125

詳細(xì)信息

硅CMP拋光液

TJHG-SH-2125
一、產(chǎn)品簡(jiǎn)介

TJHG-SH-2125型硅材料CMP拋光液是廣東騰駿化工科技有限公司研發(fā)生產(chǎn)的應(yīng)用于各種硅片及晶體材料拋光的高端產(chǎn)品。該產(chǎn)品具有去除速率高、表面粗糙度好、無(wú)劃傷等優(yōu)點(diǎn),已經(jīng)在國(guó)內(nèi)多家生產(chǎn)線上使用,能夠滿足生產(chǎn)使用要求,可以替代現(xiàn)有國(guó)外同類進(jìn)口產(chǎn)品。

二、主要特點(diǎn)

TJHG-SH-22125型硅材料CMP拋光液采用我司自主合成的SiO2水溶膠作為磨料,而磨料合成過(guò)程以及拋光液的生產(chǎn)采用全自動(dòng)化控制,能夠確保產(chǎn)品批次間的穩(wěn)定性與一致性。與同類產(chǎn)品相比,該產(chǎn)品具有良好的穩(wěn)定性和分散性;粒度可控,根據(jù)不同需要可生產(chǎn)不同粒度的產(chǎn)品,利用大粒徑二氧化硅粒子達(dá)到高速拋光的目的;拋光表面效果好以及對(duì)工件無(wú)損傷,達(dá)到高平坦化加工等優(yōu)點(diǎn)。

三、主要用途

主要用于硅片及其他半導(dǎo)體材料的拋光。

四、基本參數(shù)
pH值 比重 粘度(mPa.s,25℃) 粒徑(nm) SiO2% 外觀
10.0-12.5 1.265-1.300 ≤5 100-150 38-42 乳白
五、使用方法:

建議TJHG-SH-2125型漿料和去離子水的配比為1:15-20,也可根據(jù)實(shí)際工藝要求改變配比。

六、注意事項(xiàng)

1、漿料使用過(guò)程中盡量避免直接暴露,防止污染物進(jìn)入漿料中造成劃傷。

2、冬季氣溫較低(<5℃)時(shí),漿料不可放置室外,需存放在恒溫倉(cāng)庫(kù),一旦發(fā)生凝膠將不可使用。

3、漿料使用過(guò)程中需要及時(shí)清洗管路和器具,避免漿料長(zhǎng)期殘留在管路和容器中造成凝膠,引起晶片表面劃傷。

4、漿料循環(huán)使用時(shí),需要在管口添加過(guò)濾裝置,以免發(fā)生凝膠而又反復(fù)應(yīng)用時(shí)造成晶片表面劃傷。

七、運(yùn)輸及保存

1、運(yùn)輸與存放溫度為5-40℃,25℃為最佳存放溫度,存放時(shí)應(yīng)避光,以避免拋光液變質(zhì)。

2、保質(zhì)期一年,建議半年內(nèi)使用。

3、避免金屬、顆粒污染,避免強(qiáng)電解質(zhì)的接觸。

包裝規(guī)格

25kg/桶、250kg/桶、1000kg/桶。

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