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拋光液、研磨液
藍(lán)寶石拋光液TJHG-SH-550

名稱:藍(lán)寶石拋光液TJHG-SH-550

詳細(xì)信息

藍(lán)寶石基片CMP拋光液

TJHG-SH-550
一、產(chǎn)品簡(jiǎn)介

TJHG-SH-550型藍(lán)寶石基片CMP拋光液是廣東騰駿化工科技有限公司生產(chǎn)的新一代水溶性高純度CMP漿料,具有穩(wěn)定性好、濃度高、可循環(huán)使用等特點(diǎn),用于藍(lán)寶石基片軟拋加工工藝,能夠?qū)崿F(xiàn)晶片移除率高,表面平整度高、粗糙度低,表面無(wú)麻點(diǎn)、腐蝕坑等微缺陷,多項(xiàng)參數(shù)達(dá)到國(guó)際先進(jìn)水平。TJHG-SH-550型CMP漿料采用單質(zhì)硅水解工藝制備的致密度更好的膠體并且在輔助催化方面做了改進(jìn),具有去除速率高,表面質(zhì)量好等優(yōu)勢(shì)。

二、主要特點(diǎn)

TJHG-SH-550型藍(lán)寶石基片CMP拋光液采用我公司自主合成生產(chǎn)的高純納米SiO2水溶膠作為磨料,具有生產(chǎn)自動(dòng)化高,穩(wěn)定性好的特點(diǎn)。CMP漿料生產(chǎn)過(guò)程中采用自動(dòng)化配制,輔料的添加采用高精度流量計(jì)控制,全方位立體攪拌,兩層折疊濾芯過(guò)濾,自動(dòng)灌裝包裝的生產(chǎn)配制方法,因此產(chǎn)品金屬雜質(zhì)極少、易清洗、無(wú)毒無(wú)污染,使用中產(chǎn)品移除率高、損傷層小、平整度高,避免晶片出現(xiàn)劃傷。TJHG-SH-550型CMP拋光液中加入了特有的拋光促進(jìn)劑以及活性物質(zhì),能夠在CMP過(guò)程中保證質(zhì)量傳輸?shù)囊恢滦?,提高拋光效率。CMP過(guò)程中根據(jù)需要可以優(yōu)化不同配比,均能達(dá)到最佳使用效果,同時(shí),該產(chǎn)品在拋光過(guò)程中具有無(wú)結(jié)晶,劃傷少,可以循環(huán)使用等特點(diǎn)。

三、主要用途

主要用于2、4、6英寸藍(lán)寶石襯底片的高質(zhì)量平整化精加工工藝。

四、基本參數(shù)
pH值 比重 粘度(mPa.s,25℃) 粒徑(nm) SiO2% 外觀
10.0-12.0 1.265-1.300 ≤5 120-140 38-42 乳白色
五、使用方法:

TJHG-SH-550型藍(lán)寶石CMP漿料建議和去離子水的配比為1:1循環(huán)使用或1:2-3不循環(huán),也可根據(jù)實(shí)際要求改變配比。

六、注意事項(xiàng)

1、CMP漿料使用過(guò)程中盡量避免直接暴露,防止污染物進(jìn)入漿料中造成劃傷。

2、冬季氣溫較低(<5℃)時(shí),漿料不可放置室外,需存放在恒溫倉(cāng)庫(kù),一旦發(fā)生凝膠將不可使用。

3、漿料使用過(guò)程中需要及時(shí)清洗管路和器具,避免漿料長(zhǎng)期殘留在管路和容器中造成凝膠,引起晶片表面劃傷。

4. 漿料循環(huán)使用時(shí),需要在管口添加過(guò)濾裝置,以免發(fā)生凝膠而又反復(fù)應(yīng)用造成晶片表面劃傷。

七、運(yùn)輸及保存

1、運(yùn)輸與存放溫度為5-40℃,25℃為最佳存放溫度,存放時(shí)應(yīng)避光,以避免拋光液變質(zhì)。

2、保質(zhì)期一年,建議半年內(nèi)使用。

3、避免金屬、顆粒污染,避免強(qiáng)電解質(zhì)的接觸。

八、包裝規(guī)格

25kg/桶、250kg/桶、1000kg/桶。

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